Client
Park Systems
Participants - 3 (기여도 60%)
Eunhee Lee (Storyboard(50%), 3D Artwork & Motion(70%))
Period
3 months
Program
Cinema 4D, Redshift, After Effects
반도체 최첨단 공정인 EUV공정에서 포토마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 가장 안전하고
효과적으로 제거할 수 있는 Park NX-Mask의 특징과 장점들을 설명하는 영상입니다.
STYLEFRAME
